低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。

低阻抗、保证105℃ 2,000～5,000 小时，可对应耐振构造产品，符合AEC-Q200。耐清洗，RoHS2适应品。